■ 装备用途:板式PVD-1000具有操作简便、镀膜速度快、膜层质量高等优点,板式PVD-1000都能提供高效、可靠的透明导电薄膜(ITO、AZO等)镀膜解决方案。
■ 技术特点:
产能:200MW-1GW模块化可根据产能需求拓展。
电池效率:处于行业领先水准。
高沉积速率:增强等离子体密度,提高靶材溅射效率。
适用多层薄膜:可实现多层结构或复合薄膜的沉积,并可提供备用靶位。
镀膜模式:单面、及正反面不破真空同时镀膜
■ 装备用途:板式PVD-1000具有操作简便、镀膜速度快、膜层质量高等优点,板式PVD-1000都能提供高效、可靠的透明导电薄膜(ITO、AZO等)镀膜解决方案。
■ 技术特点:
产能:200MW-1GW模块化可根据产能需求拓展。
电池效率:处于行业领先水准。
高沉积速率:增强等离子体密度,提高靶材溅射效率。
适用多层薄膜:可实现多层结构或复合薄膜的沉积,并可提供备用靶位。
镀膜模式:单面、及正反面不破真空同时镀膜