磁控溅射镀膜装备(PVD-1000)

■装备用途:板式PVD-1000具有操作简便、镀膜速度快、膜层质量高等优点,板式PVD-1000都能提供高效、可靠的透明导电薄膜(ITO、AZO等)镀膜解决方案。■技术特点:产能:200MW-1GW模块化可根据产能需求拓展。电池效率:处于行业领先水准。高沉积速率:增强等离子体密度,提高靶材溅射效率。适用多层薄膜:可实现
产品简介

■ 装备用途:板式PVD-1000具有操作简便、镀膜速度快、膜层质量高等优点,板式PVD-1000都能提供高效、可靠的透明导电薄膜(ITO、AZO等)镀膜解决方案。

■ 技术特点:

产能:200MW-1GW模块化可根据产能需求拓展。

电池效率:处于行业领先水准。

高沉积速率:增强等离子体密度,提高靶材溅射效率。

适用多层薄膜:可实现多层结构或复合薄膜的沉积,并可提供备用靶位。

镀膜模式:单面、及正反面不破真空同时镀膜


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