等离子体化学气相沉积装备(PECVD-1000)

■装备用途:等离子体增强化学气相沉积(PECVD)是一种多功能沉积技术,可对沉积过程进行精确控制,从而生产出具有定制特性的薄膜。该技术广泛应用于半导体工业、太阳能电池、光学涂层、生物医学等领域。■技术特点:产能:200MW-1GW模块化设计可根据产能需求拓展。电池效率:处于行业领先水准。高沉积速率:提
产品简介

■ 装备用途:等离子体增强化学气相沉积(PECVD)是一种多功能沉积技术,可对沉积过程进行精确控制,从而生产出具有定制特性的薄膜。该技术广泛应用于半导体工业、太阳能电池、光学涂层、生物医学等领域。

■ 技术特点:

产能:200MW-1GW模块化设计可根据产能需求拓展。

电池效率:处于行业领先水准。

高沉积速率:提高生产效率。

薄膜沉积种类:按用户需求配备特气,实现多种薄膜沉积,及精确控制薄膜性质。


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